随着半导体技术日益小型化和复杂化,半导体湿制程应用的工艺要求也越来越严苛,需使用不同类型的介质来满足不同工艺领域的需求(例如半导体制造、光伏或LED)。因此,对于关键的工艺介质,提供超纯净、安全、可靠的输送方案及超真空环境尤为重要。
苏磁科技Supermag®提供超洁净的磁悬浮转台电机、泵浦系统、涡轮分子泵,为高端芯片制程提供高质量的磁悬浮高端装备、技术支持。
工艺流程

匀胶显影

匀胶显影

匀胶显影中,Supermag®磁悬浮晶圆转台为光刻胶的旋匀提供稳定的速度和加速度,使匀胶工艺更精确

RTP

RTP

RTP工艺中,Supermag®磁悬浮晶圆转台完美解决了真空腔体密封问题,且不产生摩擦颗粒,保证工艺良率

湿法刻蚀

湿法刻蚀

刻蚀工艺中,Supermag®磁悬浮泵为刻蚀液提供稳定的流量,提高刻蚀的可控性和均匀性

干法刻蚀

干法刻蚀

Supermag®磁悬浮涡轮分子泵无油无摩擦,可以提供超洁净、高真空环境,最小程度减小环境中的物质对于反应的影响,从而更好的控制反应,提高刻蚀的质量

离子注入

离子注入

离子注入工艺中,空气中的杂质会造成离子注入机损坏,因此需要满足高真空度。Supermag®磁悬浮涡轮分子泵具有密封性好、高真空、高洁净、排气速度快等优点,可确保离子注入生产过程中的纯净度和稳定性

薄膜沉积

薄膜沉积

Supermag®磁悬浮涡轮分子泵不存在传统机械轴承的油气污染问题,无机械摩擦,可以实现高洁净、高真空环境,使沉积的薄膜表面更光滑,提高薄膜的质量和性能。

湿法清洗

湿法清洗

单片清洗阶段,Supermag®磁悬浮晶圆转台完全避免腔体动密封,中空转子易布局,大大优化了单片腔体设计 超纯洁净是单片清洗阶段的核心工艺要求,Supermag®磁悬浮泵可提供超洁净且流量稳定的清洗液喷涂,使清洗效果最佳

电镀

电镀

在电镀工艺中,Supermag®磁悬浮泵提供稳定的电解液流量,保证电镀的均匀性

CMP

CMP

CMP Slurry输送时,传统泵剪切力高会导致颗粒产生,引起划痕。Supermag®磁悬浮泵为晶圆研磨抛光提供稳定的研磨液,剪切小,防结晶效果明显

应用场景

匀胶显影

匀胶显影中,Supermag®磁悬浮晶圆转台为光刻胶的旋匀提供稳定的速度和加速度,使匀胶工艺更精确

匀胶显影中,Supermag®磁悬浮泵以最洁净、精确、可靠的方式输送光刻胶、显影剂等

RTP

RTP工艺中,Supermag®磁悬浮晶圆转台完美解决了真空腔体密封问题,且不产生摩擦颗粒,保证工艺良率

湿法刻蚀

刻蚀工艺中,Supermag®磁悬浮泵为刻蚀液提供稳定的流量,提高刻蚀的可控性和均匀性

干法刻蚀

Supermag®磁悬浮涡轮分子泵无油无摩擦,可以提供超洁净、高真空环境,最小程度减小环境中的物质对于反应的影响,从而更好的控制反应,提高刻蚀的质量

离子注入

离子注入工艺中,空气中的杂质会造成离子注入机损坏,因此需要满足高真空度。

Supermag®磁悬浮涡轮分子泵具有密封性好、高真空、高洁净、排气速度快等优点,可确保离子注入生产过程中的纯净度和稳定性

薄膜沉积

Supermag®磁悬浮涡轮分子泵不存在传统机械轴承的油气污染问题,无机械摩擦,可以实现高洁净、高真空环境,使沉积的薄膜表面更光滑,提高薄膜的质量和性能。

湿法清洗

单片清洗阶段,Supermag®磁悬浮晶圆转台完全避免腔体动密封,中空转子易布局,大大优化了单片腔体设计

超纯洁净是单片清洗阶段的核心工艺要求,Supermag®磁悬浮泵可提供超洁净且流量稳定的清洗液喷涂,使清洗效果最佳

电镀

在电镀工艺中,Supermag®磁悬浮泵提供稳定的电解液流量,保证电镀的均匀性

CMP

CMP Slurry输送时,传统泵剪切力高会导致颗粒产生,引起划痕。Supermag®磁悬浮泵为晶圆研磨抛光提供稳定的研磨液,剪切小,防结晶效果明显

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